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VI-5 Renforts électrolytiques Electro plating. Principe Cuivrage Dépôt d ’étain Dorure Contrôles. Principle Copper plating Tin plating Gold plating Inspections. Renforts électrolytiques Electro plating. Principe de l ’électrolyse Electrolysis principle. Electrolyte (ions métal)
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VI-5Renforts électrolytiquesElectro plating VI-5 Renforts électrolytiques
Principe Cuivrage Dépôt d ’étain Dorure Contrôles Principle Copper plating Tin plating Gold plating Inspections Renforts électrolytiquesElectro plating VI-5 Renforts électrolytiques
Principe de l ’électrolyseElectrolysis principle Electrolyte (ions métal) Electrolyte (metal ions) Redresseur Rectifier + - Anode (métal) Anode (metal) Cathode Cathode VI-5 Renforts électrolytiques
Principe de l ’électrolyseElectrolysis principle Réactions chimiques Anode : métal - électrons => ions métal Cathode : ions métal + électrons => métal Chemical reactions : Anode : metal - electrons => metal ions Cathode : metal ions + electrons => metal VI-5 Renforts électrolytiques
Principe de l ’électrolyseElectrolysis principle Ex. : cuivrage au sulfate Cu++SO4- - Anode : Cu - 2e => Cu++ Cathode : Cu++ + 2e => Cu Ex. : Copper sulphate plating Cu++SO4- - Anode : Cu - 2e => Cu++ Cathode : Cu++ + 2e => Cu VI-5 Renforts électrolytiques
Principe de l ’électrolyseElectrolysis principle VI-5 Renforts électrolytiques
Principe de l ’électrolyseElectrolysis principle VI-5 Renforts électrolytiques
Principe de l ’électrolyseElectrolysis principle Ex. dépôt de cuivre : A = 63,5 g n = 2 d = 8,96 J = 2 A/dm² Vd = 0,44 µm/mn Ex. copper deposition : A = 63,5 g n = 2 d = 8,96 J = 2 A/dm² Vd = 0,44 µm/mn VI-5 Renforts électrolytiques
Métallisation électrolytiqueElectro-plating Gamme opératoire Operation flow Dégraissage Cleaning Activation Activation Microgravure Micro-etch Cuivrage Copper bath VI-5 Renforts électrolytiques
Cuivrage électrolytiqueCopper electro-plating Composition d ’un bainBath composition - Sulfate de cuivre => ions Cuivre - Acide sulfurique => conductivité - Chlorure de sodium, Additif => brillanteur - Copper sulphate => Copper ions - Sulfuric acid => conductivité - Sodium chloride, Additifve => give shiny aspect VI-5 Renforts électrolytiques
Cuivrage électrolytiqueCopper electro-plating Equipements Equipments - Anodes :cuivre au phosphore en sac polypropylène - Crochets en titane - Bullage - Filtration - Agitation - Redresseur (J 2 A/dm²) - Anodes : phosphorous copper with polypropylene bags - titanium hooks - air insufllation - Filtration - Agitation - Rectifier (J 2 A/dm²) VI-5 Renforts électrolytiques
Dépot étainTin plating Composition d ’un bainBath composition - Fluoborate d ’étain - Acide fluoborique - Acide borique - Additif - Tin fluborate - Fluoboric acid - Boric acid - Additive VI-5 Renforts électrolytiques
Dépot étain-plombTin-lead plating Equipements Equipments - Anodes :63% Sn-37% Pb en sac polypropylène - Crochets en acier inox plastifié - Filtration - Agitation - Redresseur (J 1,8 A/dm²) - Anodes : 63% Sn-37% Pb with polypropylene bags - plastified inox steel hooks - Filtration - Agitation - Rectifier (J 1.8 A/dm²) VI-5 Renforts électrolytiques
Dorure Gold plating Composition d ’un bainBath composition - Cyanure d ’or - Cyanure de potassium - Cobalt ou nickel - Additif teneur en or 4g/l pré-dorure conseillée très toxique ! - Gold cyanide - Potassium cyanide - Cobalt or nickel - Additive Gold content 4g/l pre-plating recommended very poison bath ! VI-5 Renforts électrolytiques
Dorure Gold plating Equipements Equipments - Anodes :titane platiné - Aspiration - Filtration - Agitation - chauffage (60°C) - Redresseur (J 0,25 A/dm²) - Anodes : platinum plated titanium - air extraction - Filtration - Agitation - heating (-60°C) - Rectifier (J 1.8 A/dm²) VI-5 Renforts électrolytiques
Contrôles des bainsBath control Cellule de HullHull cell Anode (+) Cathode ( -) Electrolyte VI-5 Renforts électrolytiques
Contrôles des bainsBath control Cellule de Hull :essai Hull cell :test J fort J faible J moyen VI-5 Renforts électrolytiques
Contrôles de la métallisationPlating inspection Contrôle micrographique sur échantillon Micrographic control on test sample VI-5 Renforts électrolytiques